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日本三菱将在中国建设半导体清洗液厂
据日经消息，三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂。该产品主要用于半导体生产过程中去除微小杂质。目前三菱瓦斯化学全球市占率约5%位居第1。随着全球对半导体的需求旺盛，三菱瓦斯化学将抓住半导体产业不断增长的中国国内需求，强化相关产品的供应体制。中国的新工厂主要产超纯过氧化氢，预计年产能达9万吨，并计划最早2022年上半年投产。
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