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光刻技术一清溢光电
光刻技术
光刻工序是决定掩膜版质量的最重要的环节，光刻机是光刻技术的集中载体。经过20余年的发展，公司在日常生产使用过程中持续增进对光刻机使用的理解，不断进行工艺优化和适配，掌握了众多提高光刻工序稳定性的专有技术，特别是精细图形bias补正、斜线补正、MURA控制、PPO、坐标变形控制、平整度补偿、二次对位、精密坐标校正等。公司将这些技术成功运用在3.5-5.5代Touch Panel大尺寸掩膜版、5-8.5代a-Si TFT LCD用掩膜版、4.5-6代AMOLED/LTPS用掩膜版的等各种产品制造技术上，并能够根据不同客户的订单需求进行定制化配置。经过多年技术沉淀，公司还是目前全球范围内少有的能够使用海德堡光刻机量产4.5-8.5代TFT CF和Array用掩膜版厂商。
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