高纯/超高纯靶材是实现溅射镀膜的关键。目前主流的PVD 镀膜技术主要包括溅射镀膜及真空蒸镀,其中溅射镀膜主要用于大面积基板材料镀膜,蒸发镀膜主要用于小尺寸基板材料镀膜,溅射靶材及蒸镀靶材是实现PVD 镀膜的关键。PVD 镀膜的应用领域广泛,并且靶材的纯度直接决定了最终的电子器件或光学元器件的质量和性能,因此提纯及纯度控制是靶材制造的关键,一般要求高纯度、高致密度、成分与组织结构均匀、晶粒尺寸细小,目前溅射靶材产品纯度一般99.99%-99.9999%(即4-6N)。    上游高纯金属材料长期垄断在美日德企业,国内厂商正努力寻求突破。产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布,具有一定的区域特性,上游高纯金属行业集中于美日德,具有较强的议价能力,主导产业发展。高纯溅射靶材是随半导体产业的发展而兴起,美、日企业对核心技术严密把控,掌握着行业主导权,并且全球半导体工业的区域集聚性造就了溅射靶材企业的聚集度同样较高。    下游领域包括半导体、平板显示、太阳能LOW-E 玻璃等,全球靶材市场规模呈现快速成长的势头。溅射靶材行业受益于下游如平板显示器、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件等快速发展,2016 年全球溅射靶材市场规模约为113.6 亿美元,其中平板显示(含触控屏)用靶材为38.1 亿美元、半导体用靶材11.9 亿美元、太阳能电池用靶材23.4亿美元、记录媒体靶材33.5 亿美元;到2019 年,全球溅射靶材市场规模将超过163 亿美元,年复合增长率达13%。    由于长期依赖进口,靶材生产国产化需求日益迫切,将加速本土化发展,国家产业投资基金、各项政策支持,半导体产业链包括材料等都将取得快速进步,并且目前材料国产化率较低,从国家意志层面也有迫切实现国产化的需求。近年来国内面板、半导体产业发展迅速,国内企业在江丰电子、阿石创等企业的努力下,在靶材生产技术及市场方面均取得了突破,已有国内龙头企业打入核心客户产业链中。    投资建议:溅投射靶材行业作为重点鼓励发展的战略性新兴产业,近年来国家出台了一系列产业政策引导溅射靶材工业健康稳定发展。“十三五”提出,到2020 年重大关键材料自给率达到70%以上,初步实现我国从材料大国向材料强国的战略性转变。随着此类新兴材料公司的不断上市,溅射靶材领域重点关注江丰电子(国内最大的半导体芯片用溅射靶材生产商,实现从0 到1 突破)及阿石创(综合型PVD 镀膜材料厂商),关注有研新材(子公司有研亿金:国内规模最大的金属靶材产业基地,多次参与国家项目)、隆华节能(子公司四丰电子及晶联光电:钼靶材、ITO靶材国内龙头企业)。

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